更新時間：2024-09-26
高分辨率光譜儀HR2HR2 光譜儀性能可靠，采集速度快，波長熱穩(wěn)定性好，適用于等離子監(jiān)測，藥物分析等應(yīng)用。其堅固耐用的設(shè)計使 HR2 成為OEM集成的理想之選。
高速采集和高分辨率
高分辨率光譜儀HR2
| 型號 | 波長范圍 | 分辨率（FWHM) | 刻線密度（線/毫米） | 閃耀波段 |
|---|---|---|---|---|
| UV-Vis | 250 – 400 nm | 0.12 – 1.22 nm | 1800 | Holographic |
| UV-Vis | 220 – 410 nm | 0.17 – 1.68 nm | 1200 | Holographic |
| UV-Vis | 220 – 880 nm | 0.52 – 5.36 nm | 400 | 250 nm |
| UV-Vis | 220 – 650 nm | 0.35 – 3.52 nm | 600 | 300 nm |
| UV-Vis | 250 – 700 nm | 0.44 – 4.44 nm | 500 | 330 nm |
| Vis-NIR | 350 – 800 nm | 0.35 – 3.52 nm | 600 | 400 nm |
| Vis-NIR | 450 – 530 nm | 0.08 – 0.77 nm | 2400 | Holographic |
| Vis-NIR | 400 – 850 nm | 0.35 – 3.52 nm | 600 | 500 nm |
| Vis-NIR | 450 – 650 nm | 0.17 – 1.68 nm | 1200 | Holographic |
| Vis-NIR | 530 – 645 nm | 0.12 – 1.22 nm | 1800 | Holographic |
| Vis-NIR | 350 – 1025 nm | 0.53 – 5.36 nm | 400 | 400 nm |
| Vis-NIR | 520 – 955 nm | 0.35 – 3.52 nm | 600 | 750 nm |
| NIR | 750 – 1000 nm | 0.27 – 2.75 nm | 900 | 500 nm |
| NIR | 750 – 900 nm | 0.16 – 1.68 nm | 1200 | 750 nm |
| NIR | 750 – 1100 nm | 0.35 – 3.52 nm | 600 | 1000 nm |
| Extended-range | 200 – 1000 nm | 0.71 – 7.19 nm | 300 | 200 nm |
| Extended-range | 220 – 1100 nm | 0.71 – 7.19 nm | 300 | Composite |
| Extended-range | 220 – 1100 nm | 0.71 – 7.19 nm | 300 | 500 nm |
| Slit Options | 5, 10, 25, 50, 100, 200 µm | |||
| 積分時間 | 1 μs – 2 s | |||
| 信噪比（單次掃描@10ms） | 380:1 | |||
| 信噪比（高速平均模式） | 25,800:1 | |||
| 接口 | SMA, TFM-108-02-L-DH Samtec, USB Type-C | |||
| 尺寸 | 148.8 x 106.4 x 48.2 mm | |||
| 重量 | 0.9306 kg | |||
| 溫度（工作） | 0 °C – 55 °C | |||
| 溫度（存儲） | -30 °C – 70 °C | |||
| 適合的應(yīng)用 |
| |||
高分辨率光譜儀HR2
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2） 探測器：光電探測器、單光子計數(shù)器、單光子探測器、CCD、光譜分析系統(tǒng)等等
3） 定位與加工：納米定位系統(tǒng)、微納運動系統(tǒng)、多維位移臺、旋轉(zhuǎn)臺、微型操作器等等
4） 光源：半導(dǎo)體激光器、固體激光器、單頻激光器、單縱模激光器、窄線寬激光器、
光通訊波段激光器、CO2激光器、中紅外激光器、染料激光器、飛秒超快激光器等等
5） 光機械件：用于光路系統(tǒng)搭建的高品質(zhì)無應(yīng)力光機械件，如光學(xué)調(diào)整架、鏡架、
支撐桿、固定底座等等
6） 光學(xué)平臺：主動隔振平臺、氣浮隔振臺、實驗桌、剛性工作臺、面包板、隔振、隔磁、
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